光學(xué)體系效果：改變光線的傳達(dá)方向。
組成：不一樣曲面形狀的和不一樣介質(zhì)(玻璃，晶體等)的光學(xué)零件——反射鏡，透鏡，棱鏡。正透鏡：會(huì)聚光
舉例：望遠(yuǎn)鏡光學(xué)體系，顯微鏡
理論：光線和波面的傳達(dá)規(guī)則
抱負(fù)體系：點(diǎn)對(duì)點(diǎn)，直線成像為直線，平面成像為平面。
對(duì)稱(chēng)共軸抱負(fù)體系其它性質(zhì)
(1)光軸上的物點(diǎn)，像點(diǎn)也在光軸上。(2)過(guò)光軸的截面內(nèi)的物點(diǎn)，與其像共面。(3)過(guò)光軸的恣意截面性質(zhì)都是一樣的。(4)垂直于軸的平面，同一面內(nèi)具有一樣的放大率。(5)由已知條件斷定抱負(fù)光學(xué)體系的成像性質(zhì)：已知兩對(duì)共軛面方位及放大率;或已知一對(duì)共軛面方位及放大率，再加上光軸上的兩對(duì)共軛點(diǎn)。
共軛面：一對(duì)物象面，且垂直于光軸。物像對(duì)應(yīng)聯(lián)系叫做“共軛”。
基面和基點(diǎn)：通常將這些已知的共軛面和共軛點(diǎn)別離稱(chēng)為共軸體系的“基面”和“基點(diǎn)”。
作圖法證實(shí)[1]：
①已知兩對(duì)共軛面的方位和放大率
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圖1
②已知一對(duì)共軛面的方位和放大率，以及軸上兩對(duì)共軛點(diǎn)的方位
圖2
有關(guān)名詞
共軸體系，非共軸體系;光軸;球面體系;共軸球面體系;放大率;物像聯(lián)系。
要害規(guī)劃參量
一、漸暈
光學(xué)體系通常存在30%~40%的漸暈。假如來(lái)自視場(chǎng)中各點(diǎn)的光束徹底充溢孔徑光闌而不被光闌周?chē)目讖剿趽?，則體系沒(méi)有漸暈。
二、視場(chǎng)光闌
實(shí)際上，全部光學(xué)體系的入瞳總有必定巨細(xì)，有時(shí)乃至很大，因而大多數(shù)情況下，某軸外物點(diǎn)的主光線雖不能經(jīng)過(guò)入窗，但該物點(diǎn)發(fā)出的一部分可經(jīng)過(guò)入窗進(jìn)入體系?？梢约s束大多數(shù)光線(平行于軸)空間場(chǎng)的面叫視場(chǎng)光闌。
視場(chǎng)光闌經(jīng)過(guò)其前面的光學(xué)體系于物空間所成的像為入窗。斷定視場(chǎng)光闌的方法是：把體系中除孔徑光闌以外的一切光闌經(jīng)過(guò)其前面的光組成像，入瞳中心所對(duì)張角最小的像所對(duì)應(yīng)的為視場(chǎng)光闌。在物空間，邊際主光線與光軸間夾角稱(chēng)為物方半視場(chǎng)角，其巨細(xì)是入瞳中心所對(duì)入窗張角的一半。與視場(chǎng)共軛的像平面的范圍為像場(chǎng)。關(guān)于矩形探測(cè)器，像面最大不能超過(guò)像場(chǎng)(通常為圓形)的內(nèi)接矩形，即像面對(duì)角線應(yīng)等于像場(chǎng)的直徑。
三、消雜光闌
光學(xué)體系的雜光有非成像物體入射的輻射，也有光學(xué)零件、機(jī)械零件反射和散射的輻射。雜光源大多數(shù)處在儀器以外，因而應(yīng)合理操控鏡筒內(nèi)壁的外表反射。常用的方法是鏡筒壁車(chē)螺紋并噴褐色無(wú)光漆或加雜散光擋板。
消雜光闌斷定的原則如下：
1.探測(cè)器探測(cè)到的場(chǎng)景越大，則它承受的漫散射就越多，所以擋光罩和透鏡鏡筒應(yīng)盡也許遠(yuǎn)離物場(chǎng)。
2.來(lái)自黑外表的多重反射能消除漫散射，能阻撓任一光線反射到探測(cè)器。
3.當(dāng)光罩尖利的邊際會(huì)導(dǎo)致光衍射，所以擋光罩的孔徑要調(diào)節(jié)，后邊的擋光罩內(nèi)徑應(yīng)略小。[2]
規(guī)劃進(jìn)程
光學(xué)體系的規(guī)劃過(guò)程通常請(qǐng)求如下：
1.依據(jù)運(yùn)用請(qǐng)求擬定合理的技術(shù)參數(shù)。從滿(mǎn)意運(yùn)用請(qǐng)求的程度動(dòng)身，擬定光學(xué)體系合理的技術(shù)參數(shù)。
2.光學(xué)體系總體規(guī)劃和規(guī)劃。
3.光學(xué)部件(光組、鏡頭)的規(guī)劃。通常分為選型、斷定初始構(gòu)造參數(shù)、像差校對(duì)3個(gè)階段。
4.長(zhǎng)光路的拼接與統(tǒng)算。以總體規(guī)劃為依據(jù)，以像差評(píng)估為繩尺，來(lái)進(jìn)行長(zhǎng)光路的拼接與統(tǒng)算。假如成果不合理，則應(yīng)重復(fù)試算并調(diào)整各光組的方位與構(gòu)造，直至抵達(dá)預(yù)期的方針。
5.光學(xué)體系的公役擬定。非配整個(gè)體系中一切光關(guān)顧額原件和光學(xué)機(jī)械原件及尺度的加工公役，進(jìn)行公役核算，保證體系以合理的本錢(qián)完成所請(qǐng)求的光學(xué)功能。
在擬定光學(xué)體系公役的進(jìn)程中，需要給體系中一切的光學(xué)元件和光學(xué)機(jī)械原件分配公役，包括一切的透鏡和反射鏡以及直接或直接支持光學(xué)原件的機(jī)械元件。體系的總方針是在滿(mǎn)意光學(xué)功能的請(qǐng)求的前提下，使光學(xué)原件的本錢(qián)、裝諧和校準(zhǔn)的本錢(qián)抵達(dá)最低。擬定光學(xué)體系公役的過(guò)程如下：
1.為一切光學(xué)元件和機(jī)械元件分配可變公役;
2.選擇調(diào)整參數(shù)，如后截距等;
3.公役的靈敏度剖析;
4.從頭估量公役，查看是不是有改變;
5.增加其他不能被程序模仿的公役的影響;
6.估計(jì)總的體系功能并進(jìn)行差錯(cuò)核算;
7.加嚴(yán)對(duì)體系靈敏參數(shù)的公役，放寬非靈敏參數(shù)的公役，并核算功能;
8.重復(fù)過(guò)程7直至以合理的開(kāi)支滿(mǎn)意體系功能;
9.假如體系功能不能完成，則進(jìn)行從頭規(guī)劃。
